nanoMETRONOM
Nano analytik GmbH 사의 초정밀 AFM 시스템 (active cantilever 적용)
범용 AFM으로 레이저 소스가 필요없는 ‘non-optical’ 시스템 입니다.
Active cantilever를 이용해서 self-sensing (Piezo resistive sensor), self-actuating (Thermomechanical actuation) cantilever를 구현하였습니다.
이를 이용해서 다양한 재질을 분석할 수 있고 진공에서도 사용이 가능합니다.
AFM in SEM
계측, 이미징 등 다양한 분야에서 사용 가능한 진공용 AFM 시스템
SEM 장비에서 AFM 측정을 할 수 있는 진공용 AFM 입니다.
Active cantilever를 적용하여 compact한 구성이 가능하여 사용하시는 SEM chamber를 변경하지 않아도 설치가 가능한 진공용 AFM 입니다.
간편한 설치로 5분 이내로 진공챔버에 설치가 가능합니다.
Scanning Probe Lithography (SPL)
5 nm 정밀 Patterning이 가능한 Scanning Probe Lithography (SPL)
리소그래피 기술의 resolution을 높이면 가격이 비싸지는 단점이 있습니다.
Nano analytik 사의 SPL은 합리적인 가격으로 진공 및 대기상에서 모두 사용가능한 장비 입니다.
FE-SPL 은 5 nm 이하의 정밀 Pattering 이 가능합니다.
Single-Dopant Lithography – AFM-SDL
AFM 과 Ion Beam을 결합한 Single Dopant Lithography 장비
AFM 과 Ion Beam을 결합한 Single Dopant Lithography 장비입니다.
Qbits, 원자수준의 디바이스 및 NV (nitrogen-vacancy) centers in a diamond 어플리케이션에 사용이 가능한 제품입니다.
Substrate에 5 nm 위치 정밀도로 원하는 single ion 을 implant 및 측정할 수 있습니다.
Multi-Plattform UHV System – AFM-MPS
Nanoscale 공정과 표면 분석 등을 위한 다기능 플랫폼 AFM
Nanoscale 공정과 표면 분석 등을 위한 다양한 기능의 장치와 AFM을 결합한 장비 입니다.
Single Ion Implantation, FE-SPL, TB-EBID, PVD 등의 기능이 가능합니다.
5 nm Ion Implantation 정밀도의 AFM tip을 사용한 장비는 AFM 기반 Implantation 과 1000°C 이상의 열처리를 한번에 할 수 있는 장비를 구성할 수 있습니다.
(Sample preparation chamber, Implant chamber, Thermal treatment chamber 등으로 구성)
